Comercializam o gama bogata de materiale compozite:
rasini, agenti demulare, placi poliuretanice,
 pigmenti, silicon RTV, testauri industriale
.
tel: 0368.412.413, e-mail: info@btools.ro

Blog

 

 

O matrita flexibila din silicon realizata prin “pensulare” reprezinta o alegere buna atunci cand nu dorim sa utilizam intensiv matrita rezultata in activitati de productie.

Matritele din silicon realizate prin pensulare se preteaza atat pentru modele simple cat si pentru modele mai complexe. Tehnica presupune un nivel redus spre mediu de complexitate si genereaza un consum redus de silicon RTV.

 

 

Daca dorim sa reproducem un obiect mai complex, gen “statueta”, iar pentru matrita flexibila de silicon optam pentru tehnica stratului dimensional, atunci matrita de silicon trebuie realizata din 2 sau mai multe parti.

Aceasta tehnica presupune un nivel ridicat de tehnicitate dar pastreaza consumul redus de silicon RTV pentru realizarea matritei.

 

 

Pentru matritele realizate prin pensulare (vezi articol pensulare) sau cu strat dimensional (vezi articol strat dimensional) in functie de geometria modelului, poate fi necesar sa luam in calcul o “linie de crestare” a matritei pentru a putea demula obiectul ce urmeaza a fi turnat.

Chiar daca zona liniei crestate se executa la final, atunci cand siliconul este deja intarit, ea trebuie gandita inca din etapa de executie a matritei, pentru ca in aceasta zona stratul de silicon este mai gros.



Ca si practica, in aceasta zona, se obtine un strat mai gros de silicon prin urmatoarele metode:

 

 

Daca dorim sa reproducem un obiect care are o “fata” cu detalii reliefate, iar partea opusa, baza, este dreapta (obiect gen basorelief) putem opta pentru tehnica realizarii matritei flexibile cu strat dimensional, 1 parte.

Aceasta tehnica de realizare a matritei flexibile de silicon presupune un nivel mediu spre avansat de complexitate, dar consumul de silicon RTV este redus.